大家好，来看一则突(tū)发消(xiāo)息。

　　美光公司在(zài)华销售(shòu)的产品未通过网(wǎng)络安(ān)全审查

　　据(jù)网信办消息(xī)，日前，网络(luò)安全审查办公室依法对美光公司在华销(xiāo)售(shòu)产品进(jìn)行了网络安全审查。

　　审查发现，美光公司(sī)产(chǎn)品(pǐn)存在较严重网络安全问题(tí)隐患，对我国关键信息(xī)基(jī)础设施供应链(liàn)造(zào)成重大安全(quán)风(fēng)险，影响我(wǒ)国国家(jiā)安全。为此，网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查(chá)办公室依(yī)法作出(chū)不予(yǔ)通过网络安全(quán)审查的结论(lùn)。按(àn)照(zhào)《网(wǎng)络安全法》等法(fǎ)律法规，我国内关键信息基础设(shè)施的运营者应停止采购美光公司(sī)产品(pǐn)。

　　此次对(duì)美(měi)光公司产品进(jìn)行网络(luò)安全(quán)审查(chá)，目的是防范(fàn)产(chǎn)品网络安全问题危害国家(jiā)关键信息基础设施(shī)安全，是维护国(guó)家安全的必要措(cuò)施(shī)。中(zhōng)国(guó)坚(jiān)定推进高水平(píng)对外开放，只要遵(zūn)守中(zhōng)国法律法规要(yào)求，欢(huān)迎各国企业、各(gè)类平台产品服务进入(rù)中国市场。

　　3月31日，中国(guó)网信网(wǎng)发文(wén)称，为保障关键信息基(jī)础设施供(gōng)应链安全，防范产品问题隐(yǐn)患造成网络安全风险，维护国家(jiā)安全(quán)，依据《中(zhōng)华人民共和(hé)国国家安全法》《中华人民(mín)共和国网络安(ān)全法(fǎ)》，网络安全审查办公室按(àn)照《网络安全(quán)审(shěn)查办(bàn)法》，对美光公(gōng)司（Micron）在华销售的产品实施网络安(ān)全审(shěn)查。

　　美光是美国的存(cún)储芯片行业(yè)龙头，也是全球存(cún)储芯片巨(jù)头之一(yī)，2022年收入(rù)来(lái)自中国市场收(shōu)入从此前(qián)高峰57％降(jiàng)至2022年约11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士(shì)、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash （闪存）市(shì)场份额约为 96.76％，三星电(diàn)子、 SK 海力士(shì)、美光在全球 DRAM （内存）市场份额约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙、佰维存储等公(gōng)司披露过美(měi)光等国际存(cún)储厂商(shāng)为公司供应(yīng)商。

　　美光在江波龙(lóng)采购占比已(yǐ)经显著下降，至少已经不是(shì)主(zhǔ)要(yào)大(dà)供应商。

　　公(gōng)告(gào)显(xiǎn)示， 2021年美光(guāng)位列江波(bō)龙第一大(dà)存储晶圆供(gōng)应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙(lóng)第(dì)一大、第(dì)二大和第三大供应(yīng)商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存(cún)储产(chǎn)业(yè)链上下游建立(lì)国内外广泛合作。2022年年报显示，江波龙与三(sān)星、美光、西部(bù)数据等主要(yào)存储晶(jīng)圆原(yuán)厂签(qiān)署了长期合约，确保存(cún)储晶圆供(gōng)应的稳定性，巩固(gù)公司在下游市场的供应(yīng)优势，公司也与国内国产存(cún)储(chǔ)晶圆原(yuán)厂武汉长江存(cún)储、合肥长鑫保(bǎo)持(chí)良好(hǎo)的正三角形也叫什么形，正三角形有什么性质？合作。

　　有券商此(cǐ)前就(jiù)分析，如果美光在中国区销售受到限制，或将(jiāng)导致下(xià)游(yóu)客户转而采购国(guó)外三星、 SK海力士，国内长江存储(chǔ)、长鑫(xīn)存储(chǔ)等(děng)竞对产品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游设备(bèi)厂或从(cóng)中(zhōng)受益。存储器的生(shēng)产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在(zài)已经进(jìn)入3D NAND时代，2 维到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最大量的加工设备。3D NAND每层(céng)均(jūn)需要经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu)，同时(shí)刻(kè)蚀目前前沿要(yào)刻到 60：1的深孔(kǒng)，未来可能(néng)会更深的(de)孔或者沟槽，催生更多(duō)设备需求。据东京电子披露，薄膜沉积设备(bèi)及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资本开(kāi)支合计(jì)为75％。自长江存(cún)储被加(jiā)入美国限制名单，设备国产化进(jìn)程加(jiā)速，看(kà正三角形也叫什么形，正三角形有什么性质？n)好(hǎo)拓(tuò)荆(jīng)科(kē)技（薄膜沉积）等相(xiāng)关公司(sī)份额提升，以及(jí)存储业务占比(bǐ)较高的(de)华海清科（CMP）、盛美上(shàng)海（清(qīng)洗）等收入增长(zhǎng)。

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