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寒江孤影江湖故人相逢何必曾相识是什么意思,寒江孤影四句诗是什么意思 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一(yī)则突发消息。

  美(měi)光公司(sī)在华销售的产品(pǐn)未通过(guò)网络安全审(shěn)查

  据(jù)网(wǎng)信办消(xiāo)息,日前,网(wǎng)络安全审查办公室依法对美光公司(sī)在华销售(shòu)产(chǎn)品进行了网络安全审查。

  审(shěn)查发现,美光公司产品存在较严重网络(luò)安全问题隐患,对我国关键信息(xī)基础设施供应链造成重大安全风险,影响我(wǒ)国国家安全。为此,网络(luò)安全审查办公(gōng)室(shì)依(yī)法(fǎ)作出不予通过网(wǎng)络安全审查的(de)结论。按照《网络安全法》等法(fǎ)律法规,寒江孤影江湖故人相逢何必曾相识是什么意思,寒江孤影四句诗是什么意思(wǒ)国内(nèi)关键信息基(jī)础设施的运(yùn)营(yíng)者应停止采购美光公(gōng)司产品。

  此次对(duì)美(měi)光(guāng)公司产品(pǐn)进行网络安全审(shěn)查(chá),目的是防(fáng)范产品网络安全问题危害国家关键信(xìn)息基础设施安全,是(shì)维护国(guó)家安全的必要措施。中国坚定推进(jìn)高水平(píng)对外开(kāi)放,只要遵(zūn)守中国法(fǎ)律法(fǎ)规要求,欢迎各国企业、各类平(píng)台产品服(fú)务(wù)进(jìn)入中国(guó)市场。

<寒江孤影江湖故人相逢何必曾相识是什么意思,寒江孤影四句诗是什么意思p>  半导(dǎo)体(tǐ)突发!中国出手:停止采购!

  3月31日,中国网信(xìn)网发文称,为保障关键(jiàn)信息基础设施供应(yīng)链安全,防范(fàn)产品问题隐患造成网络安全风险(xiǎn),维护国(guó)家安全,依据《中华人民共(gòng)和国国家安(ān)全法》《中华人(rén)民共和国(guó)网(wǎng)络安全法》,网络(luò)安全审(shěn)查(chá)办公室(shì)按照《网络(luò)安全审查办(bàn)法》,对美光公司(Micron)在华销售的产品(pǐn)实施网络安全审(shěn)查。

  半导体突发!中(zhōng)国(guó)出手:停止采购!

  美(měi)光是美国的存储芯片行业(yè)龙头,也是全球存(cún)储芯片巨头之(zhī)一,2022年收入来自(zì)中国市场收入从此前(qián)高峰(fēng)57%降至2022年约11%。根据市场咨询机构(gòu) Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash (闪存(cún))市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美(měi)光(guāng)在全球(qiú) DRAM (内存)市场份(fèn)额约(yuē)为 94.35%。

  A股上市公司中(zhōng),江波(bō)龙、佰维存储等公(gōng)司(sī)披露过美光(guāng)等国(guó)际存储厂商为公(gōng)司供应商。

  美(měi)光在江波龙(lóng)采购占比(bǐ)已经显著下(xià)降(jiàng),至少已经不是(shì)主要大供应商(shāng)。

  公告(gào)显示(shì), 2021年美光位列江波龙第一大(dà)存储(chǔ)晶圆供应商(shāng),采购(gòu)约31亿元,占比(bǐ)33.52%;2022年(nián),江波龙第(dì)一大(dà)、第二大和第三大供应商采购金额占比(bǐ)分别(bié)是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前寒江孤影江湖故人相逢何必曾相识是什么意思,寒江孤影四句诗是什么意思江(jiāng)波龙已经在存储产业链上下游建立国内外广泛(fàn)合作。2022年年报(bào)显示,江波龙与三星、美光、西部数据(jù)等(děng)主要存储晶圆原厂签署了长期合(hé)约,确(què)保存储晶圆供应的稳定性,巩固公司(sī)在下游(yóu)市场的供应优(yōu)势,公司也与国内(nèi)国产存储(chǔ)晶圆原厂武汉长(zhǎng)江存储、合肥长(zhǎng)鑫(xīn)保持良好的合作(zuò)。

  有券商此(cǐ)前(qián)就分析(xī),如(rú)果美光(guāng)在中国(guó)区销售受到(dào)限制,或将导致下游客户转而采购国外(wài)三星、 SK海(hǎi)力士,国内长江存储、长鑫存储等竞对产(chǎn)品

  分析称,长存(cún)、长鑫的上游设备厂或从中(zhōng)受益。存储器的生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外(wài)NAND Flash现(xiàn)在已经进入(rù)3D NAND时代(dài),2 维到3维(wéi)的结构转变使刻(kè)蚀和薄膜(mó)成为最关键、最大量的加工(gōng)设备(bèi)。3D NAND每(měi)层(céng)均需要经过(guò)薄膜(mó)沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前(qián)沿要刻(kè)到 60:1的深孔(kǒng),未(wèi)来可能会(huì)更深(shēn)的孔(kǒng)或者沟(gōu)槽,催生更多设备(bèi)需(xū)求。据东京电子披(pī)露,薄(báo)膜沉积设(shè)备及刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资本开支(zhī)合计(jì)为75%。自(zì)长江存储被加入美国限制名单,设备国产化(huà)进程加(jiā)速,看好拓荆科(kē)技(薄膜(mó)沉积(jī))等相关公司(sī)份(fèn)额提(tí)升,以及存储业务占(zhàn)比较(jiào)高的华海清科(CMP)、盛美上海(清(qīng)洗)等(děng)收(shōu)入增长。

 

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